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高純度氧化鋁 (High Purity Alumina, HPA) 作為電子、光學(xué)、陶瓷材料等領(lǐng)域的關(guān)鍵基礎材料,對其純度和粒徑分布有一定要求。根據其最終用途,純度通常需達到99.99%以上,甚至達到5N (99.999%) 水平。當前工業(yè)中廣泛應用的制備方法包括化學(xué)沉淀法與溶膠-凝膠法 (Sol-Gel),而在這兩個(gè)工藝流程中,過(guò)濾、洗滌與干燥環(huán)節是確保產(chǎn)品純度、粒徑可控性與形貌完整性的關(guān)鍵步驟。
在化學(xué)沉淀法中,通常以鋁鹽(如AlCl?、Al(NO?)?或異丙醇鋁)為前驅體,通過(guò)加入氨水或碳酸鹽進(jìn)行沉淀反應,生成Al(OH)?凝膠。隨后經(jīng)過(guò)充分洗滌以去除Cl?、NO??等雜離子,最終干燥與煅燒得到γ-Al?O?或α-Al?O?粉末。該方法純度可達99.99%以上,但工藝流程較長(cháng)、操作復雜,對設備密閉性和潔凈度要求高。
我司自主研發(fā)制造的過(guò)濾洗滌干燥三合一設備 (Agitated Nutsche Filter Dryer, ANFD) 正是為此類(lèi)復雜精細流程而設計,其在高純度氧化鋁制備中的應用展現出以下顯著(zhù)優(yōu)勢:
1. 密閉系統,防止雜質(zhì)再污染
整個(gè)過(guò)濾、洗滌、干燥過(guò)程在密閉容器中連續完成,極大降低外界環(huán)境對高純材料的污染風(fēng)險,滿(mǎn)足電子級、光學(xué)級HPA的潔凈需求。
2. 精準洗滌,提高離子殘留清除效率
設備配備底部過(guò)濾板與多向攪拌裝置,可實(shí)現沉淀物的動(dòng)態(tài)洗滌,有效去除Cl?、NO??等殘余雜離子,提升產(chǎn)品電阻率與透明性。
3. 真空干燥功能,保護物料結構完整
在完成洗滌后可直接轉入真空干燥階段,避免傳統工藝中因物料轉移造成的損失或團聚現象,同時(shí)降低熱敏物料在高溫下結構破壞的風(fēng)險。
4. 自動(dòng)化控制,提高批次穩定性
三合一設備支持PLC控制系統,可實(shí)現溫度、攪拌轉速、壓力等關(guān)鍵參數的自動(dòng)控制與記錄,確保批次之間的工藝一致性,是實(shí)現HPA生產(chǎn)自動(dòng)化、智能化的重要設備基礎。
在Sol-Gel法中,鋁醇鹽與水/醇溶劑反應生成透明溶膠,再凝膠化成干凝膠,通過(guò)過(guò)濾除去溶劑殘留和雜質(zhì),最終干燥與煅燒得到納米級高純氧化鋁粉體。該方法適合制備高比表面積、特殊形貌的納米氧化鋁。
三合一設備在該工藝中用于處理:
l 凝膠的低剪切過(guò)濾
l 反復洗滌以去除有機殘留
l 真空低溫干燥以保護形貌結構
實(shí)現了對粒徑控制、形貌調控與純度控制的協(xié)同提升。
隨著(zhù)材料產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高純度氧化鋁的市場(chǎng)需求持續增長(cháng)。傳統多步式分體工藝已難以滿(mǎn)足現代制造對效率、品質(zhì)與潔凈度的全面要求。我司的過(guò)濾洗滌干燥三合一設備,憑借其密閉、安全、連續、自動(dòng)化的優(yōu)勢,已在多家HPA生產(chǎn)企業(yè)中成功應用,成為精細材料制備工藝升級的重要推動(dòng)力量。
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